Дипломная работа: Использование установки ДСМ-2 для моделирования поведения первых зеркал в термоядерном реакторе ИТЕР
Как было выше сказано, при бомбардировке ионами дейтериевой плазмы, наблюдалось поглощение дейтерия зеркалами из аморфных сплавов.
В эксперименте использовались зеркала с одинаковым элементным составом, но разной микроструктурой. Возник вопрос: в чем причина поглощения дейтерия зеркалами – в микроструктуре или элементном составе?
В ходе эксперимента было замечено, что АЗ поглощает дейтерий в больших количествах, чем КрЗ. Причём, в отличие от последнего, (после экспозиции №4 [табл.1], КрЗ рассыпалось), на АЗ не наблюдалось каких-либо заметных изменений оптических свойств. Причина данного явления, видимо, в том, что в КрЗ происходит накопление дейтерия в межзёренном пространстве, а в АЗ происходит диффузия и равномерное накопление дейтерия во всем объеме. Вторая, возможная, причина поглощения дейтерия АЗ и КрЗ – наличие в зеркалах гидридообразующих компонент, таких как Ti и Zr.
Для проверки данной гипотезы были проведены эксперименты с аморфной фольгой, которая не содержит гидридообразующих компонент.
Конкретной целью работы порученной мне, являлось исследование поглощения дейтерия зеркалами из аморфных сплавов в зависимости от наличия или отсутствия гидридообразующих компонент.
Были сделаны экспозиции с низкой и высокой энергиями.
Низкая энергия:
Плотность тока на образец j=5.03∙1015 мА/см2 , ускоряющее напряжение -60 эВ. Время экспозиции составило 60 минут. До и после экспозиции, образцы были взвешены и по полученным данным вычислена Δm= 55∙10-6 г .
Поток ионов на поверхность образца составил
Ni = 0.41∙1018 (ион/ см2 с)
По формуле (3.4) был вычислена флюенс ионов
Di = 1,49∙1020 (ион/ см2 с) (3.4б)
Количество распыленных в течение экспозиции атомов с ед. поверхности
= 1.6∙1018 (ат/см2 ) (3.5б)
По полученным данным был вычислен коэффициент распыления
Y = 0.01
Высокая энергия:
А) U = -1500 В
Плотность тока на образец j=8.04∙1015 мА/см2 , ускоряющее напряжение -1 КэВ. Время экспозиции составило 30 минут. До и после экспозиции, образцы были взвешены и по полученным данным вычислена Δm= 480∙10-6 г .
Поток ионов на поверхность образца составил
Ni = 0.47∙1018 (ион/ см2 с)
По формуле (3.4) была вычислена доза ионов
Di = 1∙1021 (ион/ см2 с) (3.4б)
Количество распыленных в течение экспозиции атомов с ед. поверхности
= 0.8∙1019 (ат/см2 ) (3.5б)
По полученным данным был вычислен коэффициент распыления
Y = 0.04
Б) <U> = -650В
Плотность тока на образец j=8.04∙1015 мА/см2 , ускоряющее напряжение <U> = -650 В. Время экспозиции составило 30 минут. До и после экспозиции, образцы были взвешены и по полученным данным вычислена Δm= 375∙10-6 г.