Курсовая работа: Дільниця функціонального покриття індієм
Винна кислота
25
100-300
30-50
20-50
Температура t, 0 C
рН
20-30
11.5
З метою зменшення виносів у стічні води коштовних хімікатів і зменшення забруднення навколишнього середовища після ванн для нанесення покрить установлюються ванни уловлювання, а потім йде промивка у холодній воді.
Приготування електроліту. Металічний індій розчиняють у розведеній теплій сірчаній кислоті, а потім додають інші компоненти. Або анодно розчиняють індій при густині струму 10-15 А/дм3 і після досягнення необхідної концентрації вводять інші компоненти.
2.4 Вибір і обґрунтування завершальних операцій
Після промивки в холодній та теплій воді деталі сушать при температурі 40-50 0 С повітрям
Розрахунок середньої товщини покриття і часу обробки деталей
Середня товщина покриття розраховується за формулою:
dcp = dз . К,
де: dз - задана товщина покриття, мкм;
К - коефіцієнт нерівномірності товщини шару покриття, рівний 1,12;
dcp = 6 . 1,12 = 6,72 мкм
Необхідний час електролізу у ваннах покриття визначають за формулою:
,хв.
де: dcp - середня товщина покриття, мкм;
g - густина індію, g =7,31 г/см3 ;
q - електрохімічний еквівалент 1.4 г/А. ч;
jk - катодна густина струму, jk =0.85 А/дм 2 ;
ВС - вихід індію за струмом, ВС = 80%.
хвил.
2.6 Карта технологічного процесу
Всі операції, перераховані в п.п. 1.2 - 1.4 зведені до табл.2.1.
Таблиця 1.1 - Карта технологічного процесу нанесення покриття індієм.
| Операція | Склад розчину і концентрація | Режим | ||||
| Найменування компонентів, хімічна формула | г/дм3 | Час обробки, хв | Температура, о С | Густина струму, А/дм3 | рН | |
| Монтаж деталей на підвіску | ||||||
|
К-во Просмотров: 385
Бесплатно скачать Курсовая работа: Дільниця функціонального покриття індієм
| ||||||