Курсовая работа: Конструкция p-i-n диода
На рис.1 показана зависимость тока от напряжения быстродействующего переключательного p-i-n- диода, предназначенного для высокоскоростной модуляции СВЧ-мощности в цифровых системах связи [9]. Толщина базы диода около 2 мкм при диаметре p-i-n- структуры 30-35 мкм. На ВАХ не наблюдается переход к квадратичному участку даже при плотности тока (4-6)*103 А/см2 , что может свидетельствовать о высокой добротности переходов и сравнительно большом времени жизни носителей заряда в i-области.
Общий накопленный заряд QS есть сумма зарядов в i -области
и в p- и n- областях. Для симметричной модели диода
, (4)
где Qi - накопленный заряд в базе диода;
QC - накопленный заряд в контактной области.
Уравнение непрерывности для заряда, являющееся основой метода, в этом случае имеет вид
, (5)
где ti – время жизни носителей заряда в i- области при высоком уровне инжекции;
Рис. 1. ВАХ быстродействующего переключательного p-I-n- диода.
Рис. 2. Стационарное распределение носителей и накопленных зарядов в базовой и контактных областях для симметричной модели p-i-n- диода.
tС – время жизни носителей заряда в контактных областях.
Распределение носителей заряда в базовой и контактных областях в стационарном состоянии для симметричного случая показано на рис. 2. Со-
гласно распределению Больцмана концентрация носителей в I – области на границе с р – областью связана с их концентрацией в p- области соотношением
, (6)
где р0 – концентрация равновесных дырок в р- области;
V0 p - I – контактная разность потенциалов на р –I – переходе;
Vp - I –внешнее напряжение на p-i- переходе;
pi , ni – концентрация электронов и дырок в базе.
Аналогичное соотношение выполняется и на I-n- переходе. Выражение (6) справедливо до тех пор, пока в р- области выполняется условие низкого уровня инжекции. С ростом инжекции в (6) p0 необходимо заменить на p0 +nC (p), где nC (р) – концентрация электронов, инжектированных в р-область, и зависимость (6) усложняется.
Для p-I-n- диодов с w<Li при J< 103 А/см2 падением напряжения на базе в стационарном состоянии можно пренебречь [4,7,14]. В этом случае для симметричной модели падение напряжения на каждом из переходов равно
, где Vp - n – общая контактная разность потенциалов диода.
Учитывая (6), а также полагая одинаковую степень легирования р- и n- областей (p0 =n0 =NC ), распределение носителей заряда в I –области может быть записано в виде (см. рис. 2)
, (7)
где NC – концентрация доноров(акцепторов) в контактных областях;
Li – диффузионная длина носителей заряда в I- области;
В контактных областях быстродействующих переключательных
p-i-n- диодов обычно выполняется условие низкого уровня инжекции. Поэтому распределение концентрации неосновных носителей описывается экспоненциальным законом
, (8)