Реферат: Физико-топологическая модель интегрального биполярного п-р-п-транзистора
Физико-топологическая модель — модель расчета электрических параметров, исходными параметрами которой являются электрофизические характеристики полупроводниковой структуры и топологические размеры транзистора (см. рис.1). Электрофизические характеристики: концентрация собственных носителей заряда, ширина запрещенной зоны и диэлектрическая проницаемость полупроводника, времена жизни, тепловые скорости, концентрации и сечения ловушек захвата, подвижности, коэффициенты диффузии и концентрации примесных электронов и дырок. Многие из этих параметров зависят от профиля легирования (распределения концентрации легирующих примесей вглубь) транзисторной структуры.
Топологические размеры: длина эмиттера Lэ ; ширина эмиттера Zэ ; расстояния от базового контакта до края базы dбб .
Параметры профиля легирования (см. рис. 1,в): концентрация донорной примеси в эпитаксиальном коллекторном слое Nдк , глубины залегания р-п-переходов коллектор-база хк и эмиттер-база хэ , концентрации акцепторной примеси на поверхности базы Nan и донорной примеси на поверхности эмиттера Nд n , толщина эпитаксиальной пленки WЭП .
Распределение концентрации акцепторной примеси при формировании базы путем двухстадийной диффузии находится из выражения
(1)
где t1 a и t2 a — время "загонки" и "разгонки" акцепторной примеси;
D1 a и D2 a — коэффициенты диффузии акцепторной примеси при "загонке" и "разгонке".
Рис. 1. Разрез структуры и топология БТ: а - структура БТ; б - эскиз топологии БТ;в - параметры профиля легирования БТ
Распределение концентрации донорной примеси при формировании эмиттера путем одностадийной диффузии рассчитывается по формуле
(2)
где Dд и tд — коэффициент и время диффузии донорной примеси.
Коэффициент диффузии определяется выражением
D = Do exp(∆E/KT), (3)
где Do — постоянная коэффициента диффузии примеси;
∆E— энергия активации примеси;
К — постоянная Больцмана;
Т — абсолютная температура диффузии примеси.
Согласно (1) и (2) для расчета концентрации на любой глубине х транзисторной структуры необходимо знать значения времени диффузии t2 a и tд (t1 a задается), которые определяются при решении уравнений
Na ( xк , t ) = Nдк , (4)
Nд ( xэ , t ) = N.( xэ , t2 а ). (5)
Уравнения (4) и (5) являются условиями образования p-n-перехода. При решении этих уравнений относительно t2 a и tд величины Na п , Nд n , Nдк , хэ , хк являются исходными параметрами модели и задаются разработчиком.
Интегральные БТ работают при малых токах коллектора Iк (1... 1000 мкА).
При таких токах коллектора статический коэффициент передачи тока в схеме с общим эмиттером может быть рассчитан по формуле
(6)
где Iби — составляющая тока базы, обусловленная инжекцией дырок из базы в эмиттер;
Iбп и Iб р-п — составляющие тока базы, обусловленные рекомбинацией на поверхности пассивной базы и в области пространственного заряда (ОПЗ) р-п-перехода база-эмиттер.
Для БТ, включенного по схеме с общим эмиттером (ОЭ), соблюдается следующее соотношение между токами эмиттера Iэ , коллектора Iк и базы Iб :
(7)
--> ЧИТАТЬ ПОЛНОСТЬЮ <--