Дипломная работа: Технологический процесс изготовления корпуса клиноплунжерного патрона

+

+

-

-

-

44⁰⁷⁵

2Л⁰⁷⁵

Г⁰⁷⁵

k⁰⁷⁵

+

+

Примечание: в таблице 4 двойная направляющая база обозначается буквами ДН, опорная – О, установочная – буквами Уст, двойная опорная – ДО.

В качестве черновых технологических баз на первой операции ТП выбираем цилиндрическую поверхность 2 и торец 1, т.к. для обеспечения точности диаметральных размеров и взаимного расположения цилиндрических поверхностей поверхность 2 подходит лучше всех благодаря своим линейным размерам, обеспечивая устойчивое положение заготовки в приспособлении в радиальном направлении. В дальнейшем она будет обработана согласно требованиям чертежа.

Чистовыми базами на токарных операциях 010А, 035 служат:

скрытая технологическая база – ось пов.5, реализуемая при установке заготовки поверхностью 5 в самоцентрирующее устройство;

явная база- торец 6, реализуемая при его контакте с установочным элементом приспособления.

Чистовыми базами на токарных операциях 010Б служат:

скрытая технологическая база – ось пов.29, реализуемая при установке заготовки поверхностью 29 в самоцентрирующее устройство;

явная база- торец 1, реализуемая при его контакте с установочным элементом приспособления.

При фрезеровании детали базами являются:

скрытая технологическая база – ось пов.29, реализуемая при установке заготовки поверхностью 29 в самоцентрирующее устройство;

явная база - торец 1, реализуемая при его контакте с установочным элементом приспособления (такие же, что и на токарной операции).

При растачивании детали, операция 030А, базами являются:

скрытая технологическая база – ось пов.10, реализуемая при установке заготовки поверхностью 10 в самоцентрирующее устройство;

явная база - торец 21, реализуемая при его контакте с установочным элементом приспособления.

При растачивании детали, операция 030Б, базами являются:

скрытая технологическая база – ось пов.29, реализуемая при установке заготовки поверхностью 29 в самоцентрирующее устройство;

явная база- торец 1, реализуемая при его контакте с установочным элементом приспособления.

При шлифовании детали базами являются:

скрытая технологическая база – ось пов.5(29), реализуемая при установке заготовки поверхностью 5(29) в самоцентрирующее устройство;