Курсовая работа: Микропроцессор i8086/i8088
МОСКОВСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ ОТКРЫТЫЙ УНИВЕРСИТЕТ
Кафедра информационных систем и измерительных технологий
КУРСОВОЙ ПРОЕКТ
по предмету: Системное программирование
Выполнил: студентка 4 курса
специальность 200106
Шифр 604992/с
Проверил:
Москва 2008
содержание
Введение. 3
1. Структура микропроцессора i8086. 8
2. Разработка программного обеспечения. 17
2.1. Основной алгоритм.. 17
2.2. Отладка и тестирование. 19
2.3. Подсчёт контрольного кода четности. 23
2.4. Битовое маскирование. 24
2.5. Подсчет в массиве байтов с четным количеством бит. 26
2.6. Проверка элементов массива на чётность. 27
3. Ввод числовых данных. 29
4. Алгоритм проверки ввода десятичного числа. 31
Приложение. 32
Литература. 57
Введение
Производство интегральных микросхем на сегодняшний день - фундамент не только индустрии информационных и компьютерных технологий, но и многих смежных отраслей - бытовой электроники, медицины, военной промышленности.
Следует различать два основных направления развития производства микросхем. Первое - разработка архитектуры, включающая в себя выбор тех или иных функций и особенностей будущих схем, микросхемотехнику и компоновку на кристалле функциональных блоков и их элементов. А также - оптимизация готовых блоков с целью упрощения и удешевления их массового производства.
Второе направление – это полупроводниковые технологии производства микросхем. Сюда входят научная разработка и воплощение в «кремний» всё более быстрых и маленьких транзисторов, цепей связи между ними, создание новых материалов и оборудования для этого, а также «manufacturability» - область знаний о том, как производить микросхемы более высокого качества, более быстрые, с меньшим числом дефектов.
На сегодняшний день проще назвать те области, которые пока не зависят от достижений микроэлектроники. Современный человек просто обязан иметь представление о том, что такое микроэлектроника и технология производства микросхем. Вершиной же этой технологии являются микропроцессоры - самые сложные и важные интегральные схемы. [10]
Интегральные микросхемы делают на поверхности монокристаллического кремния путём последовательного создания различных слоёв на тонкой (меньше миллиметра) круглой (диаметром до 30 см) кремниевой пластине, именуемой подложкой. Слои формируются при помощи различных процессов с использованием химических реактивов, газов и света. Более двадцати слоев «витиевато» соединены между собой, дабы сформировать схему микропроцессора с трехмерной структурой. Точное число слоев на подложке (вафле) зависит от дизайн - проекта конкретного процессора.
Процессы формирования различных слоев и рисунков элементов микросхемы на подложке достаточно хитроумны, однако в их основе лежит одна простая идея: поскольку размеры создаваемого рисунка настолько малы, что осаждать материалы в нужных местах просто невозможно, поступают проще - материал осаждают сразу на всю поверхность подложки, а затем его аккуратно удаляют из тех мест, где он не нужен. Для этого служит процесс фотолитографии.
Прежде всего, на подложке создается тонкий (обычно тоньше одного
 |
???????) ? ????????, ??? ????????, ???? ??????? ?????????.
Рис.1. «Чистая комната»
Далее на нём проводится фотолитография. Для этого сначала на поверхность пластины наносится тонкий слой светочувствительного материала (фоторезист). Затем пластина с фоторезистом помещается в прецизионную установку, где нужные участки поверхности облучаются ультрафиолетом сквозь прозрачные отверстия в фотомаске (фотошаблоне). Маска содержит соответствующий (наносимый на поверхность) рисунок, который разрабатывается для каждого слоя.
Под действием ультрафиолета облученные участки фоторезиста меняют свои свойства так, что становится возможным их селективно удалить. После снятия фоторезиста остаются открытыми области поверхности пластины, над которыми требуется совершить нужную операцию (убрать слой диэлектрика или металла).
--> ЧИТАТЬ ПОЛНОСТЬЮ <--