Реферат: Физико-химические основы термовакуумного испарения и осаждения материалов

3. Епифанов Г.И. «Физические основы конструирования и технологии РЭА и ЭВА».

[1] Епифанов Г.И. «Физические основы конструирования и технологии РЭА и ЭВА». стр.59.

[2] Технология полупроводниковых приборов и изделий микроэлектроники. Книга 6. Минайчев В.Я. «Нанесение пленок в вакууме». стр16-17.

[3] Сушенцов Н.И Филимонов В.Е. «Основы технологии микроэлектроники». Стр. 9-10.

[4] Технология полупроводниковых приборов и изделий микроэлектроники. Книга 6. Минайчев В.Я. «Нанесение пленок в вакууме». стр17-22.

[5] Технология полупроводниковых приборов и изделий микроэлектроники. Книга 6. Минайчев В.Я. «Нанесение пленок в вакууме». Стр60-76.