Достоинствами метода термического испарения являются:

1) высокая скорость испарения веществ и возможность регулирования ее в широких пределах за счет изменения подводимой к испарителю мощности;

2) высокая производительность при групповой загрузке и обработке подложек;

3) возможность одновременно с осаждением пленки получать требуемую конфигурацию тонкопленочных элементов пассивной части ИС за счет использования металлических ("свободных") масок;

4) возможность вести процесс как в высоком вакууме, так и в окислительной и восстановительной среде разреженного газа.

Недостатками метода термического испарения являются:

1) невысокая воспроизводимость свойств пленок;

2) трудность испарения тугоплавких материалов и материалов сложного состава;

3) появление поверхностных дефектов в результате вылета мелких частиц, нарушающих непрерывность пленочного покрытия;

4) небольшой срок службы и высокая инерционность испарителей;

5) загрязнение пленки материалом испарителей;

6) невысокая адгезия пленок к подложке.

Многослойные системы

В связи с тем, что ни один из элементов периодической таблицы не удовлетворяет всем требованиям, предъявляемым к материалам контактных площадок, обычно применяют многослойные системы из нескольких материалов, нижний из которых (толщиной 10-20 нм) обеспечивает необходимую адгезию к подложке, верхний, (толщиной 300-800 нм) - высокую проводимость, необходимые режимы сварки и пайки. Во многих случаях применяется третий материал толщиной 30-50 нм, с низкой проводимостью, однако с хорошей коррозионной стойкостью и высокой паяемостью или свариваемостью. В качестве адгезионного слоя могут служить переходные металлы Тi, V, Zr, Cr, Ta, Nb, Hf, NiCr, сплавы PC, керметы; в качестве проводящего слоя: Au, Ag, Cu, Al; в качестве защитного слоя: Niи др.