Контрольная работа: Робототехнические комплексы (РТК) электрофизической обработки

– напыление для лазерных элементов;

– производство DWDM и CWDM фильтров;

– производство диэлектрических фильтров и зеркал.

Концепция системы:

1. Протяженный ионно-лучевой источник распыления IBSS или двойной планарный магнетрон IzoMag с автоматически меняющимися мишенями из различных материалов.

2. Протяженный ионно-лучевой источник очистки IBCS, используемый для окончательной очистки поверхности подложки от микрочастиц, адсорбированных паров газов или молекул воды и подготовки ее к напылению.

Подложка загружается в рабочую камеру через шлюзовую систему и остается неподвижной в течение всего процесса напыления. Оптический контроль осуществляется непосредственно по самой подложке. Датчик кварцевого контроля также находится в плоскости подложки.

Будучи испытанной с широким перечнем распыляемых материалов (Ti, Ta, Nb, In-Sn (5%), Al, Mg, Si, Ge, Pb, Cu, Ag и т.д) и комбинацией газов (Ar, O₂ , N₂ , H₂ , C₂ H₂ , C₃ F₈ , C₃ H₈ , и т.д.), установка PlsamaScan предоставляет неограниченные возможности для разработки и исследования новых процессов и тонкопленочных покрытий, что невозможно с использованием традиционного вакуумного напылительного оборудования.

Система ионно-лучевого распыления IBSS

Назначение. Система IBSS (рис.1) является высокоэффективным инструментом для качественного нанесения покрытий из металлов, сплавов, окислов, нитридов методом ионно-лучевого распыления протяженных мишеней в среде аргона, кислорода, азота, фреонов или смеси этих газов и позволяет обеспечить:

– нанесение проводников, полупроводников и диэлектриков;

– температуру подложки при распылении не выше 60°С (140°F).

– возможность последовательного распыления нескольких различных материалов в одном процессе;

– большой динамический диапазон скоростей нанесения

(1 Å/сек¼10 Å/сек);

– очень гладкую поверхность пленок;

– высокую плотность структуры пленок;

– однородный состав многокомпонентных пленок;

– возможность распыления мишеней длиной до 3360 мм;

– уровень неравномерности не хуже ±2% по поверхности распыления;

– надежную непрерывную работу;

– стабильные реактивные процессы распыления;

– возможность работы с инертными (Ar, He, Ne, и т.д.) и активными газами (O₂ , N₂ , CF_x , C_x H_y и т.д.);

– косое напыление.

Схема установки IBSS показана на рис.1.

Рис. 1 - Схема установки IBSS

Применение системы ионно-лучевого распыления IBSS наиболее эффективно в следующих областях:

– напыление на чувствительные к температуре подложки;

– высококачественные оптические пленки для дисплейной промышленности;