Контрольная работа: Робототехнические комплексы (РТК) электрофизической обработки

– высокая скорость очистки;

– надежная адгезия без специальных подслоев;

– возможность обрабатывать различные типы подложек (металлические, полупроводники, диэлектрики, полимеры).

Применение. Система ионно-лучевой очистки (рис.3) обеспечивает эффективную атомарную очистку и подготовку поверхности подложки при использовании в следующих областях:

– нанесение покрытий на большие подложки при производстве плоскопанельных дисплеев (FPD);

– нанесение покрытий на большие подложки при производстве архитектурного стекла;

– производство кремниевых микроэлектронных чипов;

– оптика и лазеры;

– оптическая электроника и телекоммуникации.

Рис. 3 - Схема ионно-лучевого источника очис тки

Автоматизированная установка "НИКОЛАЙ"

Установка предназначена для получения тонких пленок различных материалов на стекле, полиэтилене, металле, бумаге методом вакуумного дугового и магнетронного напыления. Установка позволяет получать полупрозрачные и зеркальные пленки на листовых и рулонных материалах, изделиях большого габарита.

Имеется возможность получения многокомпонентных составов (до шести элементов плюс реактивные газы).

Установка рассчитана на эксплуатацию в условиях умеренного климата. Управление установкой производится от ЭВМ, что гарантирует высокое качество и стабильность технологии.

Список литературы

1. Гибкие производственные комплексы /под.ред. П.Н.Белянина. – М.: Машиностроение, 1984. – 384с.

2. Гибкое автоматическое производство/под.ред. С.А.Майорова. – М.: Машиностроение, 1985. – 456с.

3. Иванов А.А. ГПС в приборостроении. – М.: Машиностроение,1988. – 282с.