Контрольная работа: Робототехнические комплексы (РТК) электрофизической обработки

– износоустойчивые пленки;

– сверхтонкие пленки (нанотехнологии).

Система распыления IzoMag является высокоэффективным инструментом для нанесения покрытий из металлов, сплавов, окислов и нитридов методом двойного магнетронного распыления на переменном токе с частотами 40…80 кГц и магнетронного распыления на постоянном токе.

Система двойного магнетронного распыления на постоянном/переменном токе IzoMag

Схема установки IzoMag представлена на рис. 2.

Рис. 2 - Схема установки IzoMag

Основные достоинства и преимущества IzoMag:

– возможность распыления от одного до четырех материалов мишеней в одном цикле на постоянном токе;

– возможность чередующегося нанесения слоев с низким и высоким коэффициентом преломления;

– возможность нанесения сплавов переменного состава при одновременном независимом распылении двух металлических мишеней на постоянном токе;

– возможность распыления мишеней длиной до 1646 мм;

– уровень неравномерности не хуже ±5% по поверхности распыления;

– надежная непрерывная работа.

Применение системы двойного магнетронного распыления IzoMag наиболее эффективно в следующих областях:

– высококачественные оптические пленки для дисплейной промышленности;

– износоустойчивые пленки;

– декоративные пленки;

– напыление на большие поверхности;

– оптические пленки;

– защитные пленки.

Система ионно-лучевой очистки IBCS

Описание изделия. Система ионно-лучевой очистки IBCS предназначена для финишной очистки поверхности подложки от молекулярных частиц, адсорбированных газов, полимерных фрагментов, воды, а также для активации поверхностных связей подложки в вакуумной камере непосредственно перед нанесением покрытия. Ионно-лучевая очистка гарантирует отличную адгезию между первым нанесенным слоем и подложкой. Ионно-лучевой источник очистки может поставляться с оригинальным блоком питания IPS-С5K.

Достоинства:

– возможность работы с инертными (Ar) и активными (O2, N2, CFx, CxHy ) газами и их смесями;

– очистка с равномерностью не хуже ±5% подложки с шириной до 3400 мм;

– надежная продолжительная работа;

– давление в вакуумной камере в процессе очистки

10-3…102Па;

– легкая и надежная установка в вакуумные установки поточного и периодического действия;