Курсовая работа: Методы получения тонких пленок
Содержание
Введение
1 Физические вакуумные методы
1.1 Термовакуумное напыление
1.2 Ионно-плазменные методы получения тонких пленок
1.2.1 Катодное распыление
1.2.2 Трехэлектродная система распыления
1.2.3 Высокочастотное распыление
1.2.4 Реактивное распыление
1.2.5 Магнетронное распыление
1.3 Ионно-лучевые методы получения тонких пленок
1.4 Молекулярно-лучевая эпитаксия
1.5 Лазерное распыление
2 Химические вакуумные методы
2.1 Реактивное катодное распыление
2.2 Газофазная МОС-гидридная эпитаксия с использованием металлоорганических соединений
2.3 Жидкофазная эпитаксия
3 Химические вневакуумные методы
3.1 Электрохимическое осаждение покрытий
3.2 Химическая металлизация
Заключение
Список литературы
Введение
Один из современных способов модификаций изделий машиностроения и приборостроения - уменьшение геометрических размеров их элементов. Многие из них включают в себя тонкопленочные покрытия, характеристики которых можно менять, варьируя их толщину. По функциональному назначению такие покрытия связаны практически со всеми разделами физики: механикой, электричеством, магнетизмом, оптикой, а в качестве материалов для них используется большинство элементов Периодической системы.
В отраслях промышленности, производящих электронные, в том числе микроэлектронные устройства, используют разнообразные технологические процессы, в которых исходные материалы и полуфабрикаты преобразуются в сложные изделия, выполняющие различные радио-, опто- или акустоэлектрические функции. При изготовлении всех видов полупроводниковых приборов и ИМС в том или ином объеме используется технологический процесс нанесения тонких пленок в вакууме – тонкопленочная технология.
В данной работе представлены основные методы получения тонких пленок, их схемы работы, а так же достоинства и недостатки этих методов.
1 Физические вакуумные методы
Физические методы осаждения различных материалов хорошо известны и достаточно подробно обсуждаются в научной литературе. Можно сказать, что все эти технологии возможны для получения оксидных пленок. Ниже приведен краткий обзор этих методов получения пленок в вакууме.
1.1 Термовакуумное напыление
--> ЧИТАТЬ ПОЛНОСТЬЮ <--