Реферат: Фотохимические реакции. Радиационно-химические реакции

ВВЕДЕНИЕ…………………………………………………..……………. 4

1 РАСЧЁТНЫЕ МЕТОДЫ ПОСТРОЕНИЯ КРИВЫХ ЛИКВИДУСА …………………………………………………………. 5

1.1Методы расчета …………………………………………………….. 5

1.2Расчет кривых ликвидуса по данным температур и теплот плавления веществ в системе «Ga – Zn»………………………..…. 9

1.3Сравнительный анализ экспериментальных и рассчитанных диаграмм………………………………………………………….….. 12

2 ФОТОХИМИЧЕСКИЕ РЕАКЦИИ………………………………….…13

2.1Общие сведения о фотохимических реакциях……….……………13

2.2 Фотосинтез……………………………………………….………….21

2.3 Люминесценция……………………………………………….…….23

3 Радиационная химия…………….……………………………26

3.1Общие сведения……………………………………………………...26

3.2 Три стадии радиационных процессов ……………………………27

3.3 Дозиметрия ионизирующих излучений…………………………..28

3.4 Радиационная стойкость некоторых материалов……………….. 29

ЗАКЛЮЧЕНИЕ ……………………………………………………………32

СПИСОК ИСПОЛЬЗУЕМЫХ ИСТОЧНИКОВ…………………………33

ВВЕДЕНИЕ

Задачей курсовой работы является расчет кривых ликвидуса по данным температур и теплот плавления веществ в системе «Ga - Zn» методом Шредара – Ле-Шателье и методом Эпстейна – Хоуленда, и по полученным данным построить диаграмму состояния двухкомпонентной системы.

Диаграммы состояния позволяют решать технологические задачи, связанные с производством стекла, керамики и технологии вяжущих материалов.

Фотохимия изучает химические процессы, идущие при воздействии на вещество света или же сопровождающиеся свечением. Фотохимические реакции взникают под влиянием видимого света, инфракрасных и ультрафиолетовых лучей. Данный раздел физической химии имеет большое прикладное значение, так как фотохимические реакции часто встречаются в окружающем нас мире.

1 РАСЧЕТНЫЕ МЕТОДЫ ПОСТРОЕНИЯ КРИВЫХ ЛИКВИДУСА

1.1 Методы расчета

Диаграммы состояния позволяют решать технологические задачи, связанные с производством стекла, керамики и технологии вяжущих материалов, например оценивать плавкость систем, устанавливать температурные интервалы кристаллизации, составы эвтектик, планировать фазовый состав материала и т. д. Экспериментальные данные для построения диаграмм состояния получают с помощью динамического метода кривых нагревания и охлаждения либо статистического метода (метода закалки). Поскольку в ряде случаев экспериментальные данные по системам отсутствуют, а диаграммы состояния не построены, прибегают к расчетным методам.

Относительно простым расчетным методом можно определить температуру ликвидуса оксидных систем и построить их диаграммы состояния, используя законы термодинамики. Для двухкомпонентных диаграмм сос­тояния можно рассчитать температуры ликвидуса, а также температуру и состав эвтектики. Для много­компонентных систем расчетным методом можно определить минимальную температуру эвтектики, но для этого предварительно вычисляются температуры ликвидуса частных двухкомпонентных систем и устанавливаются их температуры эвтектики. Расчетный метод применим только для систем, в которых между компонентами не образуются химические соединения.

1)Расчет кривых ликвидуса по уравнению Шредера-Ле-Шателье.

В основу расчета кривых ликвидуса двухкомпонентных систем положено уравнение Шредера-Ле-Шателье:

или

T= (1.1)

где Т — температура ликвидуса, К;

— температур плавления i-го компонента, К;

R — универсальная газовая постоянная, равная 8,314 Дж/(моль• К);

--> ЧИТАТЬ ПОЛНОСТЬЮ <--