Реферат: Технологія поверхневого зміцнення деталей з відновленням геометричних розмірів газотермічним
Температура
плазми,
о К
Ентальпія
плазми,
кДж/г
Ефективність
нагрівання газового струму, %
Плазма дво- і багатоатомних газів містить більшу кількість тепла при більш низьких температурах. Тому для робіт, пов'язаних з теплопередачею, коли не потрібні температури більше 10000 К, доцільніше використати двоатомні гази. Для отримання ж високих температур необхідно використовувати одноатомні гази.
Матеріали для напилення виготовляють у вигляді порошку або дроту.
Переваги напилення порошкоподібними матеріалами в порівнянні з дротовими такі: більш однорідна (без подальшої обробки) і дрібна структура покриття; можливість отримання комбінованих покриттів і так званих псевдосплавів змішуванням порошків з різних матеріалів; низька вартість.
Для плазмового напилення використовуються порошки сферичної форми грануляцій 5-100 мкм (табл. 2) або із додатку 4.
Таблиця 2
Самофлюсуючі порошки системи Ni-Cr-B-Si
| Параметр | ПГ-СР-2 | ПГ-СР-3 | ПГ-СР-4 | СНГН | ВСНГН |
| 1 | 2 | 3 | 4 | 5 | 6 |
| Хімічний склад * , % | |||||
| C | 0,3-0,6 | 0,4-0,8 | 6-1 | 1,5-1 | 0,3-0,6 |
| Cr | 12-18 | 12-16 | 13-17 | 14-18 | 10,5-12,5 |
| B | 1,5-2,5 | 2-3 | 2,5-4 | 3-5 | 2,6-3,1 |
| Si | 1,5-3 | 2,5-4,5 | 3-5 | 3,5-4,5 | 2,3-3 |
| Mn | - | - | - | - | до 3 |
| Fe | - | 5 | - | 1-3 | 2 |
| W | - | - | - | - | 33-37 |
| * нікель – основа | |||||
| Щільність 1·103 , г/м3 | 6-8 | 7,8-8,2 | 8,7 | ||
| Температура плавлення, о С | 1050-1080 | 1020-1100 | - | ||
| Твердість, HRC | 45-48 | 48-55 | 48-62 | 50-58 | 60-63 |
|
Зносостійкість по відношенню до сталі 45 | 3-4,5 | 3,5-4,6 | - | ||
| Температурний коефіцієнт, 1/о С | 14,5 | 14,5-15,3 | - | ||
Обладнання для плазменого напилення складається із плазмотрону, живильника (дозатора) та установки для плазменого напилення.
Плазмотрон – це пристрій, в якому електрична дуга розігріває газ до температури іонізації, а також розігріває порошок до температури плавлення і надає йому необхідну швидкість переміщення.
За способом стабілізації дуги вони поділяються на три групи:
- аксіальної;
- тангенціальної;
- комбінованої (рис. 2).
Найбільше стиснення дуги досягається вихровою (тангенціальною) стабілізацією.
Аксіальна система стабілізації забезпечує ламінарний плазмений потік і задовільне формування стовпа плазменої дуги в каналі електропровідного сопла.
Рис. 2. Способи стабілізації дуги в плазмотронах:
а) аксіальним (поздовжнім) газовим потоком;
б) тангенціальним газовим потоком;
в) електромагнітним полем (комбінована стабілізація).