1. Речовина з молекулярною формулою F2 утворена хімічним зв'язком: а) іонним; б) ковалентним полярним; в) ковалентним неполярним. 2. Ступінь окиснення лужних металів у сполуках дорівнює: а) +1; б) 0; в) -1. 3. У вузл...

1. Речовина з молекулярною формулою F2 утворена хімічним зв'язком: а) іонним; б) ковалентним полярним; в) ковалентним неполярним. 2. Ступінь окиснення лужних металів у сполуках дорівнює: а) +1; б) 0; в) -1. 3. У вузлах атомних кристалічних ґраток розміщені: а) полярні й неполярні молекули; б) атоми неметалів; в) позитивно заряджені іони металів і негативно заряджені іони неметалів. 4. Дано рівняння реакції: 2HgO = 2Hg + О2 У цій реакції окисником є: а) атоми Меркурію; б) іони Hg+2; в) іони О-2. 5. Укажіть ряд, у якому наведено лише іонні сполуки: а) КСl, ZnBr2, Аl2O3; б) HF, SO3, H2SO4; в) K2SiO3, NO2, HBr. 6. Елемент з електронною формулою 1s22s22р63s23р2 виявляє відповідно максимальний і мінімальний ступені окиснення: а) +2 і —2; б) +4 і —4; в) +2 і —4; г) +4 і —2.