Курсовая работа: Расчет параметров структуры интегрального n-p-n транзистора и определение технологических режимов его изготовления

Скорость наращивания ЭС соответствует диапазону vЭН = 0,10,3 мкм/мин. Выбираем vЭН = 0,2 мкм/мин.

Следовательно, длительность эпитаксиального наращивания:

5. Определение режимов разделительной диффузии

Разделительные дорожки (РД) формируются путем диффузии бора В+ с поверхности ЭС вглубь до смыкания с подложкой. При этом глубина залегания РД должна быть меньше ЭС на 1 мкм, т.е.

xjРD = hЭС + 1 мкм. (5.1)

В нашем случае, согласно выражению (5.1) xjРD = 7,062 мкм.

Глубина разделительной диффузии описывается следующим выражением:

, (5.2)

где D2 t2 – параметры второй стадии разделительной диффузии; N0 – концентрация на поверхности диффузионного разделительного слоя; NП = NЭС – концентрация примеси в ЭС.

В формуле (5.2) должно выполняться соотношение: N0 103 NП . (5.3)

Положим, что N0 = 103 NП = 103 NЭС = 5* 1019 см-3 . Из выражения (5.2) определяем D2 t2 :

.

Задаем температуру второй стадии диффузии: Т2 =1220 0 С. Определим D2 . Пользуясь рис. 9.5, а [1] находим, что для Т2 = 1220 0 С коэффициент диффузии бора D2 (1220) = 3,5* 10-12 см2 /c.

Рассчитываем значение t2 :

Определяем параметры первой стадии разделительной диффузии. Распределение примеси после второй стадии диффузии описывает выражение:

, (5.4)

где Q – количество примеси, введенное в полупроводник на первой стадии диффузии. Оно определяется через параметры первой стадии диффузии выражением:

, (5.5)


где N01 – величина предельной растворимости. Определяется по графику (рис.9.5, а) [1].

Подставим выражение (5.5) в (5.4), и выразим N0 :

, (5.6)

где N0 , согласно (5.3), принимаем равным N0 = 103 NЭС = 5* 1019 см-3 .

Из (5.6) выражаем D1 t1 :

. (5.7)

Зададим температуру первой стадии диффузии: Т1 =1150 0 С. По графику зависимости рис. 9.5, а [1] находим: D1 (1150 0 C) = 7* 10-13 см2 /c.

С помощью рис. 5.2 [1] находим предельную растворимость бора в кремнии N01 (T1 ) = N01 (1150 0 C) = 5,4* 1020 см-3 .

Определяем t1 из выражения (5.7):

К-во Просмотров: 310
Бесплатно скачать Курсовая работа: Расчет параметров структуры интегрального n-p-n транзистора и определение технологических режимов его изготовления