Курсовая работа: Разработка конструкции топологии и технологического процесса изготовления интегральной микросхемы
VD1…VD5=
=LL4148
R2
6,8 кОм±5%
R7
120 Ом±5%
R3
6,8 кОм±5%
R8
120 Ом±5%
Uкб=50 В
Uкб=50 В
Uкб=40 В
R4
2 кОм±5%
R9
120 Ом±5%
P=1 Вт
P=1 Вт
P=1 Вт
R5
6,8 кОм±5%
C1
270 пФ±20%
I=20 мА
I=25 мА
I=25 мА
Таблица 2. Назначение выводов
|
Обозначение |
К-во Просмотров: 563
Бесплатно скачать Курсовая работа: Разработка конструкции топологии и технологического процесса изготовления интегральной микросхемы
|